هذا الملف من ويكيميديا كومنز ويمكن استخدامه بواسطة المشاريع الأخرى.
الوصف على صفحة وصف الملف هناك معروض بالأسفل.
يحتوي الملفُّ الشُّعاعي هذا على نصٍّ مُضمَّن يُمكِن ترجمته إِلى العربيَّة باستخدام مُحرر صور شعاعيَّةٍ أو مُحررٍ نصِّيٍّ، لمزيدٍ من المعلومات، راجع: هذه الصَّفحة.
W3C-validity not checked.
ملخص
الوصفPhotolithography etching process.svg
English: Simplified illustration of dry etching using positive photoresist during a photolithography process in semiconductor microfabrication. Note: Not to scale.
نسب العمل إلى مُؤَلِّفه – يلزم نسب العمل إلى مُؤَلِّفه بشكل مناسب وتوفير رابط للرخصة وتحديد ما إذا أجريت تغييرات. بالإمكان القيام بذلك بأية طريقة معقولة، ولكن ليس بأية طريقة تشير إلى أن المرخِّص يوافقك على الاستعمال.
الإلزام بترخيص المُشتقات بالمثل – إذا أعدت إنتاج المواد أو غيرت فيها، فيلزم أن تنشر مساهماتك المُشتقَّة عن الأصل تحت ترخيص الأصل نفسه أو تحت ترخيص مُتوافِقٍ معه.
يسمح نسخ وتوزيع و/أو تعديل هذه الوثيقة تحت شروط رخصة جنو للوثائق الحرة، الإصدار 1.2 أو أي إصدار لاحق تنشره مؤسسة البرمجيات الحرة؛ دون أقسام ثابتة ودون نصوص أغلفة أمامية ودون نصوص أغلفة خلفية. نسخة من الرخصة تم تضمينها في القسم المسمى GNU Free Documentation License.http://www.gnu.org/copyleft/fdl.htmlGFDLGNU Free Documentation Licensetruetrue