ملف:Cudeposition.gif
اذهب إلى التنقل
اذهب إلى البحث
لا توجد دقة أعلى متوفرة.
Cudeposition.gif (٣٢٠ × ٣٨٠ بكسل حجم الملف: ٦٦٩ كيلوبايت، نوع MIME: image/gif، ملفوف، ١٨٧ إطارا، ١٩ث)
ملاحظة: نظراً للقيود التقنية، فإن الصورة المصغرة لهذا الملف GIF عالي الدقة ستكون غير متحركة.
ملخص
| الوصف |
Molecular dynamics computer simulation of the deposition of a single copper atom with a kinetic energy of 1 eV on a copper surface. Technical details: cross section of two atom layers in the middle of a larger (10x10x10 unit cells) 3D simulation cell. Simulation made with Sabochick-Lam embedded-atom method potential, Berendsen temperature control used only at the outer boundaries to scale temperature down to 0 K. Initial temperature 0 K (cell prerelaxed to allow for surface relaxation inwards). This kind of processes occur in reality during physical vapour deposition. |
| التاريخ | |
| المصدر | عمل شخصي |
| المؤلف | Knordlun |
ترخيص
|
وضع -Knordlun-، وهو المؤلف، هذا العمل في النِّطاق العامِّ. يسري ذلك في كل أرجاء العالم. في بعض البلدان، قد يكون هذا التَّرخيص غيرَ مُمكنٍ قانونيَّاً، في هذه الحالة: يمنح Knordlun الجميع حق استخدام هذا العمل لأي غرض دون أي شرط ما لم يفرض القانون شروطًا إضافية. |
تاريخ الملف
اضغط على زمن/تاريخ لرؤية الملف كما بدا في هذا الزمن.
| زمن/تاريخ | صورة مصغرة | الأبعاد | مستخدم | تعليق | |
|---|---|---|---|---|---|
| حالي | ١٣:٣٩، ٣٠ يوليو ٢٠٠٧ | | ٣٢٠ × ٣٨٠ (٦٦٩ كيلوبايت) | wikimediacommons>Knordlun | {{Information |Description=Molecular dynamics computer simulation of the deposition of a single copper atom on a copper surface. Technical details: cross section of two atom layers in the middle of a larger 3D simulation cell. Simulation made with Sabochi |
استخدام الملف
الصفحة التالية تستخدم هذا الملف:
