ملف:Common SiO2 vs high-k gate stack (DE).svg
اذهب إلى التنقل
اذهب إلى البحث
حجم معاينة PNG لذلك الملف ذي الامتداد SVG: ٤٠١ × ٢٣٥ بكسل. الأبعاد الأخرى: ٣٢٠ × ١٨٨ بكسل | ٦٤٠ × ٣٧٥ بكسل | ١٬٠٢٤ × ٦٠٠ بكسل | ١٬٢٨٠ × ٧٥٠ بكسل | ٢٬٥٦٠ × ١٬٥٠٠ بكسل.
الملف الأصلي (ملف SVG، أبعاده ٤٠١ × ٢٣٥ بكسل، حجم الملف: ٧ كيلوبايت)
.svg){kind=link}
ملخص
| الوصف |
English: Comparison of high-k dielectric structure with conventional silicon dioxide gate dielectric. Schematic is a graphical representation of an idea in the presentation by G. E. Moore, Intel Inc.
Deutsch: Vergleich eines konventionellen Gate-Schichtstapel mit Siliziumdioxid als Dielektrikum mit dem eines in High-k+Metal-Gate-Technik (vereinfachte Darstellung) hergestellten Gate-Schichtstapels. Das Schema wurde in Anlehung einer Präsentation von G. E. Moore, Intel Inc., erstellt |
| التاريخ | (UTC) |
| المصدر | |
| المؤلف |
|
 |
هذا رسمٌ مُعَدَّلٌ رقميَّاً من النسخة الأصليَّة. التعديلات هي: translation to german, thickness ratio fixed, colored. يُمكن الاطلاع على النسخة الأصليَّة هنا: High-k.svg:  . المُستخدم الذي أجرى التعديلات هو: Cepheiden.
|
ترخيص
أنا، صاحب حقوق التأليف والنشر لهذا العمل، أنشر هذا العمل تحت الرخص التالية:
  
|
هذا الملفُّ مُرخَّص بموجب رخصة المشاع الإبداعي نسبة المُصنَّف إِلى مُؤَلِّفه - المشاركة بالمثل 3.0 العامة Subject to disclaimers. | |
| ||
| تمت إضافة علامة الترخيص لهذا الملف كجزء من رخصة جنو للوثائق الحرة تحديث الترخيص. |
|
يسمح نسخ وتوزيع و/أو تعديل هذه الوثيقة تحت شروط رخصة جنو للوثائق الحرة، الإصدار 1.2 أو أي إصدار لاحق تنشره مؤسسة البرمجيات الحرة؛ دون أقسام ثابتة ودون نصوص أغلفة أمامية ودون نصوص أغلفة خلفية. نسخة من الرخصة تم تضمينها في القسم المسمى GNU Free Documentation License. |
لك أن تختار الرخصة التي تناسبك.
سجلُّ الرَّفع الأصيل
This image is a derivative work of the following images:
- File:High-k.svg licensed with Cc-by-sa-3.0-migrated-with-disclaimers, GFDL-en, GFDL-user-en-note
- 2008-01-14T18:14:30Z Stannered 401x235 (8539 Bytes) {{Information |Description=Comparison of high-k dielectric structure with conventional silicon dioxide gate dielectric. Schematic is my graphical representation of an idea in the presentation by G. E. Moore, Intel Inc. |Sourc
Uploaded with derivativeFX
تاريخ الملف
اضغط على زمن/تاريخ لرؤية الملف كما بدا في هذا الزمن.
| زمن/تاريخ | صورة مصغرة | الأبعاد | مستخدم | تعليق | |
|---|---|---|---|---|---|
| حالي | ٠٩:٥٢، ٢٠ فبراير ٢٠١٠ | | ٤٠١ × ٢٣٥ (٧ كيلوبايت) | wikimediacommons>Cepheiden | svg fix |
استخدام الملف
الصفحة التالية تستخدم هذا الملف:
.svg){kind=link}